特許
J-GLOBAL ID：200903056912628605
基板処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
別役 重尚
, 村松 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-021017
公開番号（公開出願番号）：特開2008-187102
出願日： 2007年01月31日
公開日（公表日）： 2008年08月14日
要約：
【課題】載置台における貫通穴の密封を適切に行うことができる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置10において、ステージ13はシール面20及び該シール面20に開口するステージ貫通穴27を有し、ステージ13に向けて移動自在な基部アーム18はステージ貫通穴27に対向するアーム貫通穴28を有し、アーム貫通穴28の側面には雌ねじ部29が形成され、ステージ貫通穴27及びアーム貫通穴28を嵌通するプッシャーピン17は基部アーム18におけるステージ13とは反対側に位置する雄ねじ部30を有し、プッシャーピン17が上方に移動してプッシャーピン17のフランジ35及びシール面20の開口部を囲うように配されたOリング21が離間した後、基部アーム18が下方に移動するとき、雌ねじ部29の端部29bが、雄ねじ部30の端部30aに当接する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
基板を収容する第1の空間を有する処理室と、該第1の空間に配されて前記基板を載置する板状の載置台と、該載置台における前記基板が載置される基板載置面に当接自在な被覆体と、該被覆体に接続されたガス供給部と、前記基板載置面から突出自在であり且つ前記基板を支持する複数のピン状部材と、前記第1の空間であって前記基板載置面とは反対側に配され且つ前記載置台に向けて移動自在な基部材と、前記載置台において前記載置された基板と対向するように形成された複数の封止面と、各前記封止面に配される複数の封止部材とを備える基板処理装置であって、
前記被覆体は、前記基板載置面と当接したときに該被覆体及び前記基板載置面の間に第2の空間を画成し、
前記ガス供給部は、前記第2の空間の圧力が前記第1の空間の圧力よりも高くなるようにガスを前記第2の空間に供給し、
前記載置台は、前記基板載置面とは反対側の面から各前記封止面へ貫通する複数の第1の貫通穴を有し、各前記封止部材は各前記封止面に開口する各前記第1の貫通穴の開口部を囲うように配され、
前記基部材は、該基部材の移動方向に沿って前記基部材を貫通し、側面に雌ねじ部が形成された複数の第2の貫通穴を有し、各前記第2の貫通穴は各前記第1の貫通穴と対向し、
各前記ピン状部材は各前記第1の貫通穴及び該第1の貫通穴に対向する各前記第2の貫通穴を嵌通し、その一端が各前記封止面から突出するとともに、その他端において各前記第2の貫通穴の雌ねじ部に螺合可能な雄ねじ部を有し、該雄ねじ部は前記雌ねじ部と螺合することなく前記基部材における前記載置台とは反対側に位置し、
各前記ピン状部材は、前記基部材が前記載置台に近づくように移動するとき、前記基部材と係合して該基部材の移動に応じて前記基板に近づくように移動し、
各前記ピン状部材は、各前記封止面から突出した部分において該ピン状部材の移動方向に関して垂直に延出する鍔部を有し、該鍔部は、前記ピン状部材の移動に応じて前記封止部材と離間自在であり、
前記鍔部及び前記封止部材が離間した後、前記基部材が前記載置台から遠ざかるように移動するとき、前記雌ねじ部における前記雄ねじ部側の端部が前記雄ねじ部における前記雌ねじ部側の端部に当接することを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/68 N
, C23C16/44 F
4K030AA06
, 4K030CA12
, 4K030FA10
, 4K030GA02
, 4K030GA12
, 4K030JA09
, 4K030KA10
, 4K030KA24
, 5F004AA16
, 5F004BB18
, 5F004BC01
, 5F004BC06
, 5F004BD04
, 5F031CA02
, 5F031HA33
, 5F031PA30
, 5F045BB20
, 5F045DP02
, 5F045DQ10
, 5F045EM06
, 5F045EN04
