特許

J-GLOBAL ID：200903056931209001

酸化物膜、酸化物膜形成用塗布液、酸化物膜を用いた光学部材、およびそれらの製造方法

発明者： 小谷 佳範 ,  山田 雅之 ,  田中 博幸 ,  平出 哲也
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-308625
公開番号（公開出願番号）：特開2009-163228
出願日： 2008年12月03日
公開日（公表日）： 2009年07月23日
要約：

【課題】 高温高湿の環境下に長時間放置しても膜特性の変動を抑え耐久性を大幅に向上することができ、長期にわたって安定な酸化物膜および該酸化物膜を用いた光学部材を提供する。【解決手段】 Si成分を含む酸化物膜であって、該膜の赤外分光スペクトル測定において、Si-O結合に帰属される波数1200から1000cm-1の吸収ピーク強度Aに対する、Si-O-M(MはHまたは金属元素を表す)結合に帰属される波数1000から850cm-1の吸収ピーク強度Bの相対強度比B/Aが0.86以上1.02以下である膜を含む酸化物膜および該酸化物膜を用いた光学部材。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

Si成分を含む酸化物膜であって、該膜の赤外吸収スペクトル測定において、Si-O結合に帰属される波数1200から1000cm-1の吸収ピーク強度Aに対する、Si-O-M(MはHまたは金属元素を表す)結合に帰属される波数1000から850cm-1の吸収ピーク強度Bの相対強度比B/Aが0.86以上1.02以下であることを特徴とする酸化物膜。

IPC (1件)：

G02B 1/10

FI (1件)：

G02B1/10

Fターム (6件)：

2K009BB02 ,  2K009CC03 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  2K009EE00 ,  2K009EE04

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特許第2956305号公報
  
• 反射防止フィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-152365   出願人：コニカミノルタオプト株式会社
• 反射防止膜形成用塗布液及び反射防止フィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-408644   出願人：コニカミノルタオプト株式会社

審査官引用 (4件)

• 光学複合体膜とその製造方法ならびにその光学複合体膜を備えた光素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-289531   出願人：科学技術振興事業団
• 光学用透明部材及びそれを用いた光学系
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-039787   出願人：キヤノン株式会社, 公立大学法人大阪府立大学
• 特許第2956305号
  
• 特許第2956305号