特許
J-GLOBAL ID:200903056949453333

X線反射率解析装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小川 勝男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-106443
公開番号(公開出願番号):特開平7-311165
出願日: 1994年05月20日
公開日(公表日): 1995年11月28日
要約:
【要約】【目的】本発明の目的は膜構造や各層の膜厚,膜質が未知の試料であっても、解析が可能なX線反射率解析装置を提供することに有る。【構成】薄膜試料のX線反射率パターンを計測し、得られたX線反射率パターンから抽出した振動構造を薄膜の屈折率の推定値を振りながらフーリエ解析し、各々の屈折率と周波数に対するフーリエ変換強度を3次元表示する。さらに、屈折率と周波数から膜厚を計算し、屈折率と膜厚に対するフーリエ変換強度を3次元表示する。
請求項(抜粋):
薄膜試料のX線反射率パターンから抽出した振動構造をフーリエ解析する装置において、該薄膜の屈折率の推定値を振りながら該振動構造をフーリエ解析し、各々の屈折率について得られたフーリエ解析結果を用いて、屈折率と周波数についてフーリエ変換強度プロファイルを3次元表示する機能を備えたことを特徴とするX線反射率解析装置。
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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