特許
J-GLOBAL ID:200903056993565106

プラズマ化学蒸着装置の真空容器

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 坂間 暁 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-007390
公開番号(公開出願番号):特開平9-195053
出願日: 1996年01月19日
公開日(公表日): 1997年07月29日
要約:
【要約】【課題】 真空容器内のガスの圧力分布を均一として基板面における均一な膜厚の薄膜形成を可能とする。【解決手段】 内部にヒータ2とガス供給パイプ5が傾斜して配設されその間を基板3が傾斜して走行する真空容器1の側壁が、上記基板3と平行に傾斜して形成されたことによって、基板3と側壁間の間隔が一定となり、ガス供給パイプ5から供給されるガスの圧力分布は均一となり、パウダの発生を抑制し、基板面に均一な膜厚の薄膜を形成することが可能となる。
請求項(抜粋):
内部にヒータとガス供給パイプが傾斜して配設されその間を基板が傾斜して走行する真空容器を備えたプラズマ化学蒸着装置において、上記真空容器の側壁が基板と平行に傾斜して形成されたことを特徴とするプラズマ化学蒸着装置の真空容器。
IPC (3件):
C23C 16/50 ,  B01J 3/00 ,  H01L 21/205
FI (3件):
C23C 16/50 ,  B01J 3/00 K ,  H01L 21/205
引用特許:
出願人引用 (2件)

前のページに戻る