特許
J-GLOBAL ID：200903057002829158
レーザー・パターン・ジェネレータ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-607400
公開番号（公開出願番号）：特表2002-540608
出願日： 2000年03月17日
公開日（公表日）： 2002年11月26日
要約：
【要約】間隔の開いたビーム、走査ビーム内のピクセルの強度を制御する変調器、不均一な走査ビーム速度を犠牲にして走査線の撓みを最小限度に抑える光学系(230,250)、及びピクセル速度の不均一性を補償する可変周期を有するピクセル・クロック信号を生成するタイミング・ジェネレータを有するマルチ・ビーム・ブラシを使用する走査システム(200)。走査ビームの広い間隔は、ビームの断面内の明るい方向又は暗い方向を走査方向と反対にして、変調器がビームを投入又は遮断することを可能にする。ブラシ内のビーム装置が、画像領域を均一に露光するための均一なインデクシング・ステップ・サイズを可能にする。タイミング・ジェネレータは、ピクセル周期値のソースと、ピクセルに対してピクセル周期値を選択するための選択回路と、ピクセルに対して選択されたピクセル周期値から第1の値をロードし、第1の値により示される期間をカウントし、周期の終了をマークする信号をアサートするカウンタを有する。
請求項（抜粋）：
複数のビームソースと、 少なくとも1つの前記ビームは対応する走査線に沿って不均一な速度で動くような、像面内の走査線の走査方向に沿って前記ビームを掃引する走査光学系と、 各走査線が一連の均一な寸法のピクセルに分割され、前記複数のビームの強度を別々に制御するよう配置された変調器であって、前記変調器は各ピクセルに対して強度を制御する、前記複数のビームの強度を別々に制御するよう配置された変調器と、 走査線内のピクセルの境界を示すために、前記変調器に第1の信号を供給するように結合されたタイミング・ジェネレータであって、 ピクセル周期値ソースと、 各ピクセルに対してピクセル周期値の1つを選択するように結合された選択回路と、 前記選択回路に結合されたカウンタであって、各ピクセルに対して、前記カウンタは、前記ピクセルに対して選択された前記ピクセル周期値から第1の値をロードし、前記第1の値により示された時間の周期をカウントし、前記周期の終了をマークする第2の信号をアサートし、前記第1の信号は前記第2の信号から導出される前記選択回路に結合されたカウンタを有するタイミング・ジェネレータを有する走査システム。
IPC (5件)：
H01L 21/027
, G02B 26/10
, G02F 1/33
, G03F 7/20 502
, G03F 7/20 521
G02B 26/10 B
, G02F 1/33
, G03F 7/20 502
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 515 B
, H01L 21/30 518
2H045BA02
, 2H045BA26
, 2H045BA32
, 2H045CA97
, 2H045CA99
, 2H045CB33
, 2H097AA03
, 2H097BA10
, 2H097BB10
, 2H097CA13
, 2H097EA01
, 2H097LA10
, 2K002AA06
, 2K002AB08
, 2K002BA12
, 2K002EB12
, 2K002GA10
, 5F046BA07
