特許
J-GLOBAL ID：200903057045606896

フッ素置換イリジウム錯体、その中間体及びその製造方法

発明者：
平田 寛樹

平田 寛樹 について

, 
杉野 真紀

杉野 真紀 について


出願人/特許権者：
三菱マテリアル株式会社

三菱マテリアル株式会社 について


代理人 (1件)： 須田 正義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-067919
公開番号（公開出願番号）：特開2003-113163
出願日： 2002年03月13日
公開日（公表日）： 2003年04月18日
要約：
【要約】【課題】 発光効率が高く、耐久性に優れたフッ素置換イリジウム錯体及びその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明のフッ素置換イリジウム錯体は、次の式(1)で示され、窒素原子から数えて1,6,7及び12位を除く位置に2つ以上フッ素が置換されたフッ素置換2-フェニルピリジンとイリジウムとが錯体を形成した化合物であり、このフッ素置換イリジウム錯体の製造方法は、イリジウム(III)アセチルアセトネートと窒素原子から数えて1,6,7及び12位を除く位置に2つ以上フッ素が置換されたフッ素置換2-フェニルピリジンとを反応させ、錯体を形成させることにより得られる。【化37】但し、整数m及びnの関係が2≦m+n≦8であって、0≦m≦4かつ0≦n≦4である。
請求項（抜粋）：
次の式(1)で示され、窒素原子から数えて1,6,7及び12位を除く位置に2つ以上フッ素が置換されたフッ素置換2-フェニルピリジンとイリジウムとが錯体を形成したフッ素置換イリジウム錯体。【化1】但し、整数m及びnの関係が2≦m+n≦8であって、0≦m≦4かつ0≦n≦4である。
IPC (5件)：
C07D213/61 ,  C07D213/26 ,  C07F 3/02 ,  C07F 3/06 ,  C07F 15/00
FI (5件)：
C07D213/61 ,  C07D213/26 ,  C07F 3/02 B ,  C07F 3/06 ,  C07F 15/00 E
Fターム (25件)：
4C055AA01 ,  4C055BA03 ,  4C055BA08 ,  4C055BA39 ,  4C055BB14 ,  4C055CA02 ,  4C055CA39 ,  4C055DA39 ,  4C055FA03 ,  4C055FA31 ,  4C055GA02 ,  4H048AA01 ,  4H048AB84 ,  4H048AB92 ,  4H048VA10 ,  4H048VA11 ,  4H048VA12 ,  4H048VA13 ,  4H048VA32 ,  4H048VA61 ,  4H048VA67 ,  4H050AA01 ,  4H050AA02 ,  4H050AB84 ,  4H050AB92
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)
引用文献：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM