露光装置及び基板保持装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：平木祐輔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-267023
公開番号（公開出願番号）：特開平10-116760
出願日： 1996年10月08日
公開日（公表日）： 1998年05月06日
要約：

【要約】【課題】基板ホルダーの基板保持面の清掃を容易に行うことのできる露光装置を提供する。【解決手段】感光基板15と同程度の厚みと形状を有し、表面に基板保持面を形成した基板保持用アダプター18を別部材として用意する。基板ステージのベースステージ17上に基板保持用アダプター18を真空吸着し、その上に感光基板15を真空吸着保持する。基板保持用アダプター18は基板搬送系によってベースステージ17から取り外して露光装置内を搬送し、露光装置内の洗浄部もしくは基板収納ボックス内に搬送収納する。洗浄部で洗浄されて異物が除去された基板保持用アダプター、又は洗浄ののち基板収納ボックスに戻された基板保持用アダプター18は、再び基板搬送系によってベースステージ17上に戻される。

請求項（抜粋）：

マスクに形成されたパターンを感光基板上に投影する投影光学系と、前記感光基板を載置する基板ステージとを含む露光装置において、前記基板ステージは、前記感光基板を保持する着脱自在な基板保持用アダプターと、前記基板保持用アダプターを固定する保持部とを備えたことを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , H01L 21/68

FI (3件)：

H01L 21/30 503 C , G03F 7/20 521 , H01L 21/68 N

引用特許：

審査官引用 (8件)

基板保持装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-357049 出願人：キヤノン株式会社
特開平1-201936
特開平1-201936

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