フォトマスクおよびその製造方法

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：宮田金雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-223941
公開番号（公開出願番号）：特開平10-069054
出願日： 1996年08月26日
公開日（公表日）： 1998年03月10日
要約：

【要約】【課題】フォトマスクにおいて、透明ガラス基板上の金属膜が放電によって損傷する。【解決手段】透明ガラス基板11上のダイシングライン12内側と外側との金属膜13a、13bを接続する導電性の連結パターン14を、集積イオンビーム16あるいはレーザーCVD法を用いて、転写され得ない微細幅に形成することによって、金属膜13a、13b間の放電を抑える。

請求項（抜粋）：

透明ガラス基板上に所定のパターンを有する遮光性の金属膜を形成した後、該金属膜の分離されたパターン間を接続する導電性の連結パターンを、集積イオンビームを照射することにより、転写され得ない微細幅で形成することを特徴とするフォトマスクの製造方法。

IPC (2件)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 1/08 A , H01L 21/30 502 P

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開平3-157653
特開平4-366843
特開昭63-164240

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