特許
J-GLOBAL ID:200903057096032983

光回折構造による隠しパターン及びその作製方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 金山 聡
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-156133
公開番号(公開出願番号):特開2003-344631
出願日: 2002年05月29日
公開日(公表日): 2003年12月03日
要約:
【要約】【課題】偽造防止効果が大で、目視手段による判別が極めて困難な隠しパターンとその作製方法を提供する。【解決手段】前記課題の目的を達成するために、回折格子からなり、図柄を形成するN個の面パターンに、回折格子による微細な縞で構成され、第1のパターンと第2のパターンからなる面パターンが組み込まれて図柄を形成する光回折構造において、前記図柄を形成する光回折構造を網目状に分割し、前記各網目を前記図柄に対応させたN+1個の画素で構成した光回折構造による隠しパターンとその作製方法を提供する。
請求項(抜粋):
回折格子からなり、図柄を形成するN個の面パターンに、回折格子による微細な縞で構成され、第1のパターンと第2のパターンからなる面パターンが組み込まれて図柄を形成する光回折構造において、前記図柄を形成する光回折構造を網目状に分割し、前記各網目を前記図柄に対応させたN+1個の画素で構成したことを特徴とする光回折構造による隠しパターン。
IPC (3件):
G02B 5/18 ,  B42D 15/10 531 ,  G07D 7/20
FI (3件):
G02B 5/18 ,  B42D 15/10 531 C ,  G07D 7/20
Fターム (16件):
2C005HA02 ,  2C005HA04 ,  2C005HB10 ,  2C005HB13 ,  2C005HB20 ,  2C005JA19 ,  2C005JB09 ,  2H049AA33 ,  2H049AA60 ,  2H049AA66 ,  3E041AA01 ,  3E041AA03 ,  3E041BA11 ,  3E041BB03 ,  3E041CA01 ,  3E041DB01
引用特許:
審査官引用 (4件)
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