特許
J-GLOBAL ID:200903057096032983
光回折構造による隠しパターン及びその作製方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
金山 聡
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-156133
公開番号(公開出願番号):特開2003-344631
出願日: 2002年05月29日
公開日(公表日): 2003年12月03日
要約:
【要約】【課題】偽造防止効果が大で、目視手段による判別が極めて困難な隠しパターンとその作製方法を提供する。【解決手段】前記課題の目的を達成するために、回折格子からなり、図柄を形成するN個の面パターンに、回折格子による微細な縞で構成され、第1のパターンと第2のパターンからなる面パターンが組み込まれて図柄を形成する光回折構造において、前記図柄を形成する光回折構造を網目状に分割し、前記各網目を前記図柄に対応させたN+1個の画素で構成した光回折構造による隠しパターンとその作製方法を提供する。
請求項(抜粋):
回折格子からなり、図柄を形成するN個の面パターンに、回折格子による微細な縞で構成され、第1のパターンと第2のパターンからなる面パターンが組み込まれて図柄を形成する光回折構造において、前記図柄を形成する光回折構造を網目状に分割し、前記各網目を前記図柄に対応させたN+1個の画素で構成したことを特徴とする光回折構造による隠しパターン。
IPC (3件):
G02B 5/18
, B42D 15/10 531
, G07D 7/20
FI (3件):
G02B 5/18
, B42D 15/10 531 C
, G07D 7/20
Fターム (16件):
2C005HA02
, 2C005HA04
, 2C005HB10
, 2C005HB13
, 2C005HB20
, 2C005JA19
, 2C005JB09
, 2H049AA33
, 2H049AA60
, 2H049AA66
, 3E041AA01
, 3E041AA03
, 3E041BA11
, 3E041BB03
, 3E041CA01
, 3E041DB01
引用特許: