亜酸化ケイ素、二酸化ケイ素及び/又は炭化ケイ素の面平行な構造を製造する方法、当該方法によって得られる面平行な構造ならびにその使用

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：津国肇 , 篠田文雄 , 束田幸四郎
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-567985
公開番号（公開出願番号）：特表2005-517620
出願日： 2003年02月11日
公開日（公表日）： 2005年06月16日
要約：

20〜2000nmの範囲の厚さ及び1mm未満の範囲の小さな寸法を有する薄い面平行な構造からなる、PVD法によって製造される生成物が記載されている。製造は、蒸発器に通される支持体上に亜酸化ケイ素を凝縮することによって実施される。支持体には、亜酸化ケイ素の凝縮の前に、PVD法で可溶性の無機又は有機剥離剤を前コーティングしておく。溶解によって生成物を分離させる工程を含むすべての工程は、連続的に実施することもできるし、異なる場所で同時に実施することもできる。最終工程として、酸素含有ガス中、大気圧及び200°Cを超える温度でSiOyをSiO2に酸化させてもよいし、あるいは、炭素含有ガス中、500°C〜1500°Cで、面平行な構造の表面でSiOyをSiCに転換してもよい。このようにして製造された生成物は、高い厚さの均一さによって特徴づけられている。

請求項（抜粋）：

SiOy(0.95≦y≦1.8、好ましくは1.1≦y≦1.8)の面平行な構造を製造する方法であって、 a)可動支持体に剥離剤を蒸着させて剥離剤層を製造する工程と、 b)前記剥離剤層にSiOy層を蒸着させる工程と、 c)溶媒中で前記剥離剤層を溶解させる工程と、 d)前記SiOyを前記溶媒から分別する工程とを含み、工程b)で、前記SiOy層を、SiとSiO2との重量比が好ましくは0.15:1〜0.75:1の範囲であり、特にSiとSiO2との化学量論的混合物であるSi及びSiO2の混合物、SiOy又はそれらの混合物を含む仕込み原料が収容されている蒸発器から蒸着させ、工程c)を、工程a)及びb)での圧力よりも高く、かつ大気圧よりも低い圧力で実施する方法。

IPC (5件)：

C01B33/113 , A61K7/00 , A61K7/027 , C23C14/00 , C23C14/10

FI (5件)：

C01B33/113 A , A61K7/00 E , A61K7/027 , C23C14/00 A , C23C14/10

Fターム (44件)：

4C083AA082 , 4C083AA122 , 4C083AB171 , 4C083AB172 , 4C083AB242 , 4C083AC352 , 4C083AC432 , 4C083CC13 , 4C083DD11 , 4C083EE03 , 4C083EE07 , 4G072AA50 , 4G072BB06 , 4G072BB09 , 4G072DD01 , 4G072DD02 , 4G072DD03 , 4G072DD04 , 4G072DD05 , 4G072DD06 , 4G072GG01 , 4G072HH01 , 4G072HH13 , 4G072HH14 , 4G072HH28 , 4G072HH33 , 4G072JJ03 , 4G072JJ47 , 4G072NN09 , 4G072QQ06 , 4G072QQ09 , 4G072RR02 , 4G072RR03 , 4G072RR11 , 4G072RR15 , 4G072TT01 , 4G072UU27 , 4G072UU30 , 4K029BA41 , 4K029BA46 , 4K029BB02 , 4K029BD00 , 4K029CA01 , 4K029GA05

引用特許：

審査官引用 (3件)

着色光沢顔料
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-107990 出願人：チバスペシャルティケミカルズホールディングインコーポレーテッド
金属フレークの製造方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-578498 出願人：アベリー・デニソン・コーポレイション
色効果顔料及び同顔料を形成する方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-594869 出願人：チバスペシャルティケミカルズホールディングインコーポレーテッド

引用文献：

審査官引用 (1件)

"Silicon Carbide Powder Synthesis from Silicon Monoxide and Methane"

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