特許
J-GLOBAL ID：200903057144007228
加速度センサ及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
恩田 博宣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-035511
公開番号（公開出願番号）：特開平8-236782
出願日： 1995年02月23日
公開日（公表日）： 1996年09月13日
要約：
【要約】【目的】 小型化、高感度化及び実装容易化を達成できる加速度センサを提供する。【構成】 この加速度センサ1は、p型単結晶シリコン基板2の表面側に形成された凹部3内にカンチレバー構造部を変位可能に配置してなる表面型の加速度センサ1である。カンチレバー構造部は、第1のマス部5、第2のマス部6及び複数の梁7を持つ。第1のマス部5は、n型エピタキシャル成長層8からなる。第2のマス部6は、p型多孔質シリコン層9からなり、第1のマス部5の下面略中央部から突出している。複数の梁7は、第1のマス部5をその側方から支持する。
請求項（抜粋）：
p型単結晶シリコン基板(2)の表面側に形成された凹部(3)内にカンチレバー構造部を変位可能に配置した加速度センサ(1,31,45,46)において、前記カンチレバー構造部は、n型シリコン層(8)からなる第1のマス部(5)と、p型シリコン層(26)からなり前記第1のマス部(5)の下面略中央部から突出する第2のマス部(6)と、前記第1のマス部(5)をその側方から支持する梁(7,33)とによって構成される加速度センサ。
IPC (3件)：
H01L 29/84
, G01P 15/12
, H01L 21/306
H01L 29/84 A
, G01P 15/12
, H01L 21/306 P
