特許

J-GLOBAL ID：200903057245226397

二波長レーザ加工光学装置およびレーザ加工方法

発明者： 三浦 宏
出願人/特許権者： 財団法人 浜松科学技術研究振興会
代理人 (1件)： 朝日奈 宗太 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-004702
公開番号（公開出願番号）：特開2001-196665
出願日： 2000年01月13日
公開日（公表日）： 2001年07月19日
要約：

【要約】【課題】 レーザビームの利用効率がたかくて加工性がよく、高価な光学部品の使用数の削減されたレーザ加工光学装置を提供する。【解決手段】 レーザ加工光学装置において、長波長と短波長の2つのレーザと、前記2つのレーザの出力ビームを同軸の光路に導いて重畳させる光学系と、同軸の光路に重畳した前記2つのレーザの出力ビームを被加工物上に集光する集光レンズとを備え、前記光学系が、一方のレーザの出力ビームを全反射し他方のレーザの出力ビームを透過させるダイクロイックミラーを前記集光レンズの直前に備え、前記短波長のレーザが、エキシマレーザ、アレキサンドライトレーザ、YAG高調波レーザまたは半導体レーザのいずれかからなる。

請求項（抜粋）：

長波長と短波長の2つのレーザと、前記2つのレーザの出力ビームを同軸の光路に導いて重畳させる光学系と、同軸の光路に重畳した前記2つのレーザの出力ビームを被加工物上に集光する集光レンズとを備え、前記光学系が、一方のレーザの出力ビームを全反射し他方のレーザの出力ビームを透過させるダイクロイックミラーを前記集光レンズの直前に備え、前記短波長のレーザが、エキシマレーザ、アレキサンドライトレーザ、YAG高調波レーザまたは半導体レーザのいずれかからなるレーザ加工光学装置。

IPC (3件)：

H01S 3/00 ,  B23K 26/06 ,  G02B 17/08

FI (3件)：

H01S 3/00 B ,  B23K 26/06 A ,  G02B 17/08 Z

Fターム (25件)：

2H087KA26 ,  2H087LA26 ,  2H087NA03 ,  2H087NA04 ,  2H087RA48 ,  4E068CA01 ,  4E068CA04 ,  4E068CA05 ,  4E068CD02 ,  4E068CD12 ,  5F072AA05 ,  5F072AA06 ,  5F072AB01 ,  5F072AB05 ,  5F072AB13 ,  5F072AB20 ,  5F072JJ08 ,  5F072JJ20 ,  5F072KK30 ,  5F072MM08 ,  5F072QQ02 ,  5F072RR01 ,  5F072RR03 ,  5F072RR05 ,  5F072YY06

引用特許：

審査官引用 (7件)

• 特開平1-245992
  
• 特開平4-065154
  
• レーザーはんだ付け装置用光源
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-107444   出願人：新日本製鐵株式会社
• 特開昭58-079782
  
• レーザ加工装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-067302   出願人：スズキ株式会社
• レーザ加工装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-252237   出願人：スズキ株式会社
• 特開昭62-289390
  

引用文献：

審査官引用 (1件)

• 2 kW cw Fiber-coupled Diode Laser System