特許

J-GLOBAL ID：200903057256331435

大型基板及びその製造方法

発明者： 柴野 由紀夫 ,  三原田 悟 ,  上田 修平 ,  渡部 厚 ,  田畑 正樹
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-015513
公開番号（公開出願番号）：特開2003-292346
出願日： 2003年01月24日
公開日（公表日）： 2003年10月15日
要約：

【要約】【解決手段】 平坦度/対角長が6.0×10-6以下である対角長が500mm以上の大型基板。【効果】 本発明の大型基板を露光に使用することで、露光精度、特に重ね合わせ精度及び解像度が向上するため、高精細な大型パネルの露光が可能となる。また、本発明の加工方法により安定して高平坦度の大型フォトマスク用基板を取得することが可能となる。パネル露光時のCD精度(寸法精度)が向上することで微細パターンの露光が可能となり、パネルの歩留まりの向上にもつながる。更に、本発明の加工方法を応用することで、任意の形状の表面形状を創生することも可能となる。

請求項（抜粋）：

平坦度/対角長が6.0×10-6以下である対角長が500mm以上の大型基板。

IPC (2件)：

C03C 19/00 ,  G03F 1/14

FI (3件)：

C03C 19/00 Z ,  C03C 19/00 A ,  G03F 1/14 B

Fターム (6件)：

2H095BC27 ,  2H095BC28 ,  4G059AA08 ,  4G059AB03 ,  4G059AB05 ,  4G059AC03

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 高平坦ガラス基板の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-323112   出願人：旭硝子株式会社
• 基板表面の平坦度測定装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-238016   出願人：東芝セラミックス株式会社
• ウェーハその他の薄層体の表面形状測定方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-316058   出願人：黒田精工株式会社
• 円板の表面形状測定方法および厚み測定方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-096558   出願人：黒田精工株式会社, 株式会社スーパーシリコン研究所