特許
J-GLOBAL ID:200903057281416844
高濃度有機性廃水の浄化処理方法及び装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
三浦 邦夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-374820
公開番号(公開出願番号):特開2004-202381
出願日: 2002年12月25日
公開日(公表日): 2004年07月22日
要約:
【課題】好気性生物処理槽(曝気槽)内の微生物の生存環境に悪影響を及ぼさず、むしろ微生物の生理活性を向上させ、高濃度有機性廃水や難分解物質含有廃水を効率よく浄化処理し得る方法及び装置を提供すること。【解決手段】pH<5又はpH>8、BOD20/BOD5 >1.5、COD>BOD、BOD:N:P>100:15:5、BOD>6000ppm、SS>2000ppm、n-Hex>100ppmの高濃度有機性廃水を活性汚泥法により処理するため、該廃水を固液分離装置8及び原水調整槽3で5.5≦pH≦7.5、BOD20/BOD5 ≦1.5、COD≦0.5×BOD、BOD:N:P≦100:15:5、BOD≦5000ppm、SS≦1000ppm、n-Hex≦50まで処理した後、曝気槽4に導入して好気性生物処理する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
pH<5又はpH>8、BOD20/BOD5 >1.5、COD>BOD、BOD:N:P>100:15:5、BOD>6000ppm、SS>2000ppm、n-Hex>100ppmの高濃度有機性廃水を活性汚泥法により浄化処理するに当たり、該高濃度有機性廃水を5.5≦pH≦7.5、BOD20/BOD5 ≦1.5、COD≦0.5×BOD、BOD:N:P≦100:15:5、BOD≦5000ppm、SS≦1000ppm、n-Hex≦50まで固液分離処理及び有機物低分子化処理に付した後、曝気槽に導入して好気性生物処理することを特徴とする高濃度有機性廃水の浄化処理方法。
IPC (3件):
C02F3/12
, C02F1/00
, C02F1/30
FI (4件):
C02F3/12 F
, C02F3/12 N
, C02F1/00 P
, C02F1/30
Fターム (10件):
4D028AB00
, 4D028AC00
, 4D028BA00
, 4D028BA04
, 4D037AA11
, 4D037BA17
, 4D037CA02
, 4D037CA06
, 4D037CA07
, 4D037CA16
引用特許:
審査官引用 (6件)
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特開昭49-089345
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特開昭54-001962
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特開昭55-116496
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