特許
J-GLOBAL ID:200903057291254028

蒸着源と蒸着装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 石島 茂男 ,  阿部 英樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-269925
公開番号(公開出願番号):特開2006-083431
出願日: 2004年09月16日
公開日(公表日): 2006年03月30日
要約:
【課題】膜質の良い薄膜を成膜可能な蒸着装置を提供する。 【解決手段】 筒状のアノード電極21の上端部分を除去し、切り欠き部分22を設け、基板13から見える部分にアノード電極21の内壁面が存在しないようにした。従って、基板13から見える部分で小滴が発生せず、基板表面に小滴が到達することが無くなる。微小荷電粒子は磁力線17に巻き付きながら移動するため、基板13表面に到達し、薄膜が成長する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
筒状のアノード電極と、 前記電極内に配置された蒸着材料と、 前記蒸着材料に近接する位置に配置されたトリガ電極とを有し、 前記蒸着材料と前記トリガ電極との間にトリガ放電を生じさせ、前記蒸着材料と前記アノード電極との間にアーク放電を誘起させ、前記蒸着材料から蒸着材料の粒子を放出させ、 前記アーク放電によって流れるアーク電流により、前記粒子中に含まれる微小荷電粒子にローレンツ力を及ぼし、前記微小荷電粒子を前記アノード電極の開口から放出させる蒸着源であって、 前記アノード電極の先端部分に切り欠き部分が設けられ、前記切り欠き部分で前記蒸着材料が露出するようにされた蒸着源。
IPC (2件):
C23C 14/24 ,  H01L 21/285
FI (2件):
C23C14/24 F ,  H01L21/285 P
Fターム (19件):
4K029BA03 ,  4K029BA08 ,  4K029BA09 ,  4K029BA12 ,  4K029BA16 ,  4K029BA17 ,  4K029BA34 ,  4K029BD02 ,  4K029CA01 ,  4K029DB03 ,  4M104BB02 ,  4M104BB04 ,  4M104BB05 ,  4M104BB13 ,  4M104BB14 ,  4M104BB16 ,  4M104BB17 ,  4M104BB18 ,  4M104DD34
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 蒸着装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2003-014352   出願人:株式会社アルバック

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