特許
J-GLOBAL ID：200903057331658151
半導体製造装置及びその診断装置ならびに半導体製造装置の運用システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-180740
公開番号（公開出願番号）：特開2004-031381
出願日： 2002年06月21日
公開日（公表日）： 2004年01月29日
要約：
【課題】使用者が装置の状態や異常の原因を正確に、また短時間で判断可能な半導体の製造装置を提供する。【解決手段】原材料を処理して半導体を形成する本体と、この本体が行う動作の情報を所定のデータとして記録する記録手段と、前記本体と遠隔した箇所に設けられ、前記データを利用して前記本体の動作を演算してシミュレートする演算手段のシミュレートした結果を表示する表示手段とを備えた半導体製造装置。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
原材料を処理して半導体を形成する本体と、この本体が行う動作の情報を所定のデータとして記録する記録手段と、前記本体と遠隔した箇所に設けられ、前記データを利用して前記本体の動作を演算してシミュレートする演算手段のシミュレートした結果を表示する表示手段とを備えた半導体製造装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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