特許
J-GLOBAL ID:200903057345286575

フォトニッククリスタル導波路の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 前田 弘 (外7名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-026403
公開番号(公開出願番号):特開2002-228868
出願日: 2001年02月02日
公開日(公表日): 2002年08月14日
要約:
【要約】【課題】 同一構造の導波路を大量生産する場合でも、製造コストが低く且つ各導波路毎の特性のバラツキが小さいフォトニッククリスタル導波路の製造方法を提供する。【解決手段】 中実の第1ロッド材2,2,...と屈折率が相互に異なる内側部及び外側部を有する第2ロッド材3,3,...とをそれぞれ複数本ずつ準備し、複数本の第1ロッド材2,2,...及び複数本の第2ロッド材3,3,...を束端面に第1ロッド材2,2,...によって所定の導波路パターンを形成し且つ第2ロッド材3,3,...の内側部によって所定の格子パターンを形成するように束ねてロッド材束4を作製した後、そのロッド材束4を加熱延伸加工により細径化して繊維状体を作製し、その繊維状体を所定厚さにスライスすることによりフォトニッククリスタル導波路を製造する。
請求項(抜粋):
中実の第1ロッド材と、屈折率が相互に異なる内側部及び外側部を有する第2ロッド材と、をそれぞれ複数本ずつ準備し、上記複数本の第1ロッド材及び複数本の第2ロッド材を、束端面に該第1ロッド材によって所定の導波路パターンを形成し且つ該第2ロッド材の内側部によって所定の格子パターンを形成するように束ねてロッド材束を作製した後、上記ロッド材束を加熱延伸加工により細径化して繊維状体を作製し、上記繊維状体を所定厚さにスライスすることでフォトニッククリスタル導波路を製造する、ことを特徴とするフォトニッククリスタル導波路の製造方法。
IPC (2件):
G02B 6/13 ,  G02B 6/12
FI (3件):
G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 Z ,  G02B 6/12 N
Fターム (7件):
2H047KA03 ,  2H047LA12 ,  2H047PA00 ,  2H047PA24 ,  2H047PA26 ,  2H047QA04 ,  2H047TA41
引用特許:
審査官引用 (7件)
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