特許

J-GLOBAL ID：200903057360796725

被膜形成用コーティング材組成物及び反射防止基材

発明者： 福崎 僚三 ,  辻本 光 ,  横川 弘
出願人/特許権者： パナソニック電工株式会社
代理人 (2件)： 西川 惠清 ,  森 厚夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-044844
公開番号（公開出願番号）：特開2009-203285
出願日： 2008年02月26日
公開日（公表日）： 2009年09月10日
要約：

【課題】コストを削減して、高い反射防止性能を実現することができる被膜形成用コーティング材組成物およびこの被膜形成用コーティング材組成物で被覆された反射防止基材を提供する。【解決手段】被膜形成用コーティング材組成物に関する。中空のシリカ粒子、中実の金属酸化物粒子、マトリクス形成樹脂を含有する。中実の金属酸化物粒子の含有量が中空のシリカ粒子の含有量よりも多いこと、および、中実の金属酸化物粒子の平均粒径が中空のシリカ粒子の平均粒径よりも小さいことが好ましい。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

中空のシリカ粒子、中実の金属酸化物粒子、マトリクス形成樹脂を含有することを特徴とする被膜形成用コーティング材組成物。

IPC (4件)：

C09D 201/00 ,  C09D 7/12 ,  G02B 1/11 ,  B32B 7/02

FI (4件)：

C09D201/00 ,  C09D7/12 ,  G02B1/10 A ,  B32B7/02 103

Fターム (31件)：

2K009AA04 ,  2K009BB02 ,  2K009CC03 ,  2K009CC09 ,  2K009CC21 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  2K009DD06 ,  4F100AA03 ,  4F100AA17A ,  4F100AA20A ,  4F100AG00 ,  4F100AK52 ,  4F100AT00B ,  4F100BA02 ,  4F100CC00A ,  4F100DE01A ,  4F100DE04A ,  4F100EH46 ,  4F100JN06 ,  4F100JN26 ,  4J038CD121 ,  4J038CD131 ,  4J038DL021 ,  4J038HA216 ,  4J038HA446 ,  4J038KA12 ,  4J038KA20 ,  4J038KA21 ,  4J038NA19 ,  4J038PB08

引用特許：

出願人引用 (1件)

• シリカ系微粒子、該微粒子分散液の製造方法、および被膜付基材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-048277   出願人：触媒化成工業株式会社