特許
J-GLOBAL ID：200903093245008582
シリカ系微粒子、該微粒子分散液の製造方法、および被膜付基材
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 政久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-048277
公開番号（公開出願番号）：特開2001-233611
出願日： 2000年02月24日
公開日（公表日）： 2001年08月28日
要約：
【要約】【課題】 低屈折率のシリカ系微粒子を得る。また、樹脂等との密着性、反射防止能に優れた被膜付基材を得る。【解決手段】 シリカ系微粒子は、図1(a)に示すように、シリカ系無機酸化物からなる外殻(シェル)10の内部に空洞20を有している。外殻10は細孔を有する多孔質なものであっても良いし、該細孔が閉塞されて空洞20を密封したものであっても良い。外殻10は図1(b)に示すように、第1シリカ被覆層11および第2シリカ被覆層12からなる複数のシリカ系被覆層であることが好ましい。
請求項（抜粋）：
平均粒子径が5nm〜300nmであるシリカ系微粒子であって、該微粒子は細孔を有する外殻の内部に空洞が形成されてなる中空球状であり、該空洞内に該微粒子調製時の溶媒および/または気体を包含してなることを特徴とするシリカ系微粒子。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (30件)：
4G072AA25
, 4G072BB05
, 4G072BB16
, 4G072DD08
, 4G072GG01
, 4G072GG03
, 4G072HH21
, 4G072HH28
, 4G072JJ21
, 4G072KK03
, 4G072NN21
, 4G072QQ09
, 4G072RR19
, 4G072SS02
, 4G072SS12
, 4G072TT02
, 4G072UU04
, 4G072UU07
, 4J037AA18
, 4J037CB23
, 4J037CC28
, 4J037DD05
, 4J037DD06
, 4J037EE03
, 4J037EE11
, 4J037EE16
, 4J037EE25
, 4J037EE43
, 4J037EE46
, 4J037FF02
