洗浄方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長門侃二 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-242602
公開番号（公開出願番号）：特開2002-052322
出願日： 2000年08月10日
公開日（公表日）： 2002年02月19日
要約：

【要約】【課題】とくに微粒子の除去能力に優れ、洗浄液の残留が少なく垂直立ち上げが可能な超純水製造システムの洗浄方法を提供する。【解決手段】超純水製造装置、超純水のユースポイント、並びに前記超純水製造装置と前記ユースポイントとを接続する超純水の流路からなる超純水製造システムの少なくとも一部を洗浄する際に、前記超純水との接触面に付着した微粒子の表面電位を変化させることにより、前記微粒子を除去する。

請求項（抜粋）：

超純水製造装置、超純水のユースポイント、並びに前記超純水製造装置と前記ユースポイントとを接続する超純水の流路からなる超純水製造システムの少なくとも一部を洗浄する方法であって、前記超純水との接触面に付着した微粒子の表面電位を変化させることにより、前記微粒子を除去することを特徴とする超純水製造システムの洗浄方法。

IPC (10件)：

B01D 65/02 , B01D 65/02 510 , B01D 65/06 , B08B 3/08 , B08B 3/10 , B08B 3/12 , B08B 9/027 , B08B 9/08 , C02F 1/34 , C02F 1/44

FI (10件)：

B01D 65/02 , B01D 65/02 510 , B01D 65/06 , B08B 3/08 Z , B08B 3/10 Z , B08B 3/12 Z , B08B 9/08 , C02F 1/34 , C02F 1/44 J , B08B 9/06

Fターム (30件)：

3B116AA13 , 3B116AA33 , 3B116AB51 , 3B116BB62 , 3B116BB82 , 3B116BB83 , 3B116CC05 , 3B201AA13 , 3B201AA33 , 3B201AB51 , 3B201BB62 , 3B201BB83 , 3B201BB92 , 3B201BB93 , 3B201BC05 , 3B201CA03 , 3B201CC21 , 4D006GA06 , 4D006JA55C , 4D006KC16 , 4D006KC19 , 4D006KC22 , 4D006KD04 , 4D006KD17 , 4D006PC02 , 4D006PC42 , 4D037AA03 , 4D037BA18 , 4D037BA26 , 4D037CA03

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭62-176507
超純水中の微粒子捕捉用濾過膜の洗浄方法並びに超純水中の微粒子捕集用濾過膜及び部品の保管・運搬方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-305427 出願人：オルガノ株式会社
特開昭62-176507

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