特許
J-GLOBAL ID:200903057410082826
高分子固定化遷移金属触媒の製法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
下田 昭
, 赤尾 謙一郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-022771
公開番号(公開出願番号):特開2006-205105
出願日: 2005年01月31日
公開日(公表日): 2006年08月10日
要約:
【課題】 遷移金属触媒を両親媒性の架橋性高分子中に固定することにより調整された高分子固定化遷移金属触媒の製法であって、従来のマイクロカプセル化法-架橋法では十分に固定できない原料を用いた場合でも、金属を微小クラスターとして高分子に固定することのでき、汎用性の高い製法を提供する。 【解決手段】 架橋性高分子と遷移金属化合物とを4級アンモニウム塩を含有する溶媒に均一に溶解又は分散させ、その結果遷移金属化合物が担持された高分子が生じるので、この析出物中の架橋性高分子の架橋基を架橋反応させて、高分子固定化遷移金属触媒を得る。 【選択図】 なし
請求項(抜粋):
芳香族側鎖、親水性側鎖及び架橋基を有する架橋性高分子と、遷移金属化合物とを、当該架橋性高分子を溶解する溶媒中で均一化させ、生じた組成物を析出させ、当該析出物中の架橋基を架橋反応させることから成る高分子固定化金属触媒の製法であって、前記溶媒が4級アンモニウム塩を含むことを特徴とする高分子固定化金属触媒の製法。
IPC (2件):
FI (2件):
B01J31/28 Z
, B01J37/03 Z
Fターム (48件):
4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069BA22A
, 4G069BA22B
, 4G069BC29A
, 4G069BC72B
, 4G069BC75B
, 4G069BE08A
, 4G069BE14A
, 4G069BE19A
, 4G069BE21A
, 4G069BE36A
, 4G069BE36B
, 4G069BE37A
, 4G069BE37B
, 4G069CB02
, 4G069CB25
, 4G069CB80
, 4G069DA08
, 4G069EA01Y
, 4G069FA01
, 4G069FA02
, 4G069FB08
, 4G069FC10
, 4G169AA03
, 4G169AA08
, 4G169BA22A
, 4G169BA22B
, 4G169BC29A
, 4G169BC72B
, 4G169BC75B
, 4G169BE08A
, 4G169BE14A
, 4G169BE19A
, 4G169BE21A
, 4G169BE36A
, 4G169BE36B
, 4G169BE37A
, 4G169BE37B
, 4G169CB02
, 4G169CB25
, 4G169CB80
, 4G169DA08
, 4G169EA01Y
, 4G169FA01
, 4G169FA02
, 4G169FB08
, 4G169FC10
引用特許:
出願人引用 (3件)
-
金属化合物組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-181695
出願人:和光純薬工業株式会社, 小林修
-
マイクロカプセル化金属触媒
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-059742
出願人:科学技術振興事業団
-
パラジウム触媒組成物
公報種別:再公表公報
出願番号:JP2003011131
出願人:独立行政法人科学技術振興機構
審査官引用 (1件)
-
金属化合物組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-181695
出願人:和光純薬工業株式会社, 小林修
引用文献:
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