高速成膜が可能なスパッタリング用焼結ターゲット材

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-322696
公開番号（公開出願番号）：特開平7-173621
出願日： 1993年12月21日
公開日（公表日）： 1995年07月11日
要約：

【要約】【目的】高速成膜を可能とするスパッタリング用焼結ターゲット材を提供する。【構成】スパッタリング用焼結ターゲット材がBaX Sr1-X TiO3-Y で表される組成式を満足し、かつ、アルカリ金属不純物量を10ppm以下としてなる。

請求項（抜粋）：

酸素欠陥のある一般式BaX Sr1-X TiO3-Y で表されるBSTO薄膜形成用スパッタリング焼結ターゲット材において、アルカリ金属不純物量を10ppm以下としたことを特徴とする高速成膜が可能なスパッタリング用焼結ターゲット材。

IPC (2件)：

C23C 14/34 , C01G 23/00

引用特許：

審査官引用 (5件)

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