特許
J-GLOBAL ID：200903057418771922
ガスハイドレート連続製造方法及び装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山田 恒光 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-137267
公開番号（公開出願番号）：特開2003-327980
出願日： 2002年05月13日
公開日（公表日）： 2003年11月19日
要約：
【要約】【課題】 反応容器内で水とハイドレート形成ガスとを反応させて生成したガスハイドレートを連続的に安定して取り出せるようにして高効率なガスハイドレートの製造を可能にする。【解決手段】 反応容器1に所定レベルを保持するよう水を供給すると共に反応容器1内が所定圧力範囲に保持されるようハイドレート形成ガスを供給して所定の冷却温度で接触させることによりガスハイドレートを生成するガスハイドレート連続製造方法であって、液面に生成するガスハイドレートを回転する掻き寄せ羽根15にて反応容器1の中心側に移動させることにより集合し、集合したガスハイドレートを鉛直方向に設けた取出管17により反応容器1の下部に取り出す。
請求項（抜粋）：
反応容器に所定レベルを保持するよう水を供給すると共に反応容器内が所定圧力範囲に保持されるようハイドレート形成ガスを供給して所定の冷却温度で接触させることによりガスハイドレートを生成するガスハイドレート連続製造方法であって、液面に生成するガスハイドレートを回転する掻き寄せ羽根にて反応容器の中心側に移動させることにより集合し、集合したガスハイドレートを鉛直方向に設けた取出管により反応容器の下部に取り出すことを特徴とするガスハイドレート連続製造方法。
IPC (6件)：
C10L 3/06
, C07B 61/00
, C07B 63/02
, C07C 5/00
, C07C 7/20
, C07C 9/04
C07B 61/00 C
, C07B 63/02 B
, C07C 5/00
, C07C 7/20
, C07C 9/04
, C10L 3/00 A
4H006AA02
, 4H006AA04
, 4H006AC93
, 4H006BD81
, 4H006BE60
