新規な光反応用触媒及びそれを使用する光触媒反応方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：工業技術院物質工学工業技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-237424
公開番号（公開出願番号）：特開平9-075745
出願日： 1995年09月14日
公開日（公表日）： 1997年03月25日
要約：

【要約】【課題】従来の半導体光触媒より大幅に高性能な半導体光触媒、及び該触媒を使用する光触媒反応方法を提供すること。【解決手段】半導体組成が異なる2種類以上の半導体光触媒から成ることを特徴とする光反応用触媒及び該触媒を使用する光触媒反応方法。紫外光透過性無機物粉末と半導体光触媒から成ることを特徴とする光反応用触媒及び該触媒を使用する光触媒反応方法。

請求項（抜粋）：

半導体組成が異なる2種類以上の半導体光触媒から成ることを特徴とする光反応用触媒。

IPC (4件)：

B01J 35/02 , B01J 21/08 , B01J 23/42 , C02F 1/32

FI (4件)：

B01J 35/02 J , B01J 21/08 Z , B01J 23/42 Z , C02F 1/32

引用特許：

審査官引用 (5件)

光触媒粉体を用いた酸化・還元方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-313224 出願人：ぺんてる株式会社
特開昭63-097234
耐被毒脱臭光触媒
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-322735 出願人：日揮ユニバーサル株式会社

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