特許
J-GLOBAL ID:200903057441649166
表示装置およびその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
滝本 智之 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-258057
公開番号(公開出願番号):特開平10-104595
出願日: 1996年09月30日
公開日(公表日): 1998年04月24日
要約:
【要約】【課題】 TFTを構成するゲート配線またはソース配線の低反射化を図る。【解決手段】 ソース・ドレイン電極5と半導体層6とゲート電極7を少なくとも有し、それぞれが絶縁膜3を介して形成されて成る順スタガ型TFTにおいて、露出したゲート配線及びソース配線の表面に電着法によって順次反射防止膜10を形成する。画素電極4をパターン形成し、ソース・ドレイン電極5をパターン形成し、半導体層構成膜6を介してゲート電極7をパターン形成し、前記ゲート電極7パターンをマスクとして前記半導体層構成膜の不要部をエッチング除去し、前記エッチングにて露出したソース電極と前記ゲート電極にそれぞれ反射防止処理を施す。
請求項(抜粋):
配線電極材の表面に、電着法により顔料を付着させ、反射防止膜を形成したことを特徴とする表示装置。
IPC (3件):
G02F 1/1335
, G02B 1/11
, G02F 1/136 500
FI (3件):
G02F 1/1335
, G02F 1/136 500
, G02B 1/10 A
引用特許:
審査官引用 (4件)
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液晶表示装置の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-323527
出願人:富士通株式会社
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特開昭60-133493
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特開昭61-145531
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液晶表示装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-300742
出願人:株式会社東芝
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