特許
J-GLOBAL ID:200903057458907975

パターン偏光回転光学素子およびパターン偏光回転光学素子の製造方法、ならびに3Dディスプレイ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 秀策
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-268921
公開番号(公開出願番号):特開平9-138308
出願日: 1996年10月09日
公開日(公表日): 1997年05月27日
要約:
【要約】【課題】 耐熱性を有し、空間的に均一な偏光を有する光学素子およびその製造方法、ならびに該光学素子を有する3Dディスプレイを提供する。【解決手段】 光学素子は光の偏光をマイクロ操作するためのものである。この素子は、液晶ポリマーおよび適当な配向層を用いて具現化され、これにより、第1の領域(A)および第2の領域(B)の配列が得られる。第1の領域(A)は、通過光の偏光ベクターを第1の角度(θ)だけ回転させ、第2の領域(B)は、偏光ベクターを異なる角度(Ψ)だけ回転させる。
請求項(抜粋):
厚さdおよび複屈折率Δnを有する複屈折材料を含む層を備えたパターン偏光回転光学素子であって、該層は少なくとも1つの第1の領域および少なくとも1つの第2の領域を備え、光学ラジエーションの真空内波長をλとすると、該少なくとも1つの第1の領域および該少なくとも1つの第2の領域の少なくとも一方がΔn×d>>φλ/πを満たす固定ツイスト角φを有するツイスト複屈折材料を備え、該少なくとも1つの第1の領域は光の偏光を第1の固定角度だけ回転させ、該少なくとも1つの第2の領域は光の偏光を該第1の固定角度とは異なる第2の固定角度だけ回転させる、パターン偏光回転光学素子。
IPC (3件):
G02B 5/30 ,  G02B 1/04 ,  G02F 1/13 505
FI (3件):
G02B 5/30 ,  G02B 1/04 ,  G02F 1/13 505
引用特許:
審査官引用 (9件)
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