特許
J-GLOBAL ID：200903057470813390
干渉計
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 正年 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-137853
公開番号（公開出願番号）：特開平7-324908
出願日： 1994年05月30日
公開日（公表日）： 1995年12月12日
要約：
【要約】【目的】 ノイズのない高精度な面形状測定ができる干渉計を得ることを主目的とする。【構成】 光源からの光束を参照面および被検面へ導くと共に、参照面および被検面からの反射光を結像光学系へ導くビームスプリッタと、結像光学系を介して形成された干渉像を検出する検出光学系とを備えた干渉計に、ビームスプリッタと被検面との間にビ-ムエキスパンダを配置すると共に、ビームエキスパンダと前記被検面との間に、互いに直交する偏光成分の間に実質的に90°の位相差を与える位相機能を持つ誘電体多層膜反射鏡を有する位相反射部材を配置する。
請求項（抜粋）：
光源と、該光源からの光束を参照面および被検面へ導くと共に、前記参照面および被検面からの反射光を結像光学系へ導くビームスプリッタと、前記結像光学系を介して形成された干渉像を検出する検出光学系とを備えた干渉計において、前記ビームスプリッタと前記被検面との間にビ-ムエキスパンダを配置すると共に、互いに直交する偏光成分の間に実質的に90°の位相差を与える位相機能を持つ誘電体多層膜反射鏡による位相反射部材を前記ビームエキスパンダと前記被検面との間に配置したことを特徴とする干渉計。
引用特許：
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