特許
J-GLOBAL ID:200903057472602095

超純水製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 須山 佐一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-222502
公開番号(公開出願番号):特開平7-075780
出願日: 1993年09月07日
公開日(公表日): 1995年03月20日
要約:
【要約】【目的】 紫外線により有機物を分解する超純水製造装置において、紫外線の照射効率を高めるとともに、イニシャルコスト及びランニングコストを低減させることを目的とする。【構成】 前処理システム、一次純水システムと二次純水システムからなる超純水製造装置において、前記一次純水システムと二1純水システムに、それぞれ、180〜190nmの波長を含む紫外線を照射する低圧紫外線ランプを備えた紫外線照射装置と混床式イオン交換装置の組合せを流路に沿って少くとも設けたことを特徴とする超純水製造装置。
請求項(抜粋):
前処理システム、一次純水システムと二次純水システムからなる超純水製造装置において、前記一次純水システムと二次純水システムに、それぞれ、180〜190nmの波長を含む紫外線を照射する低圧紫外線ランプを備えた紫外線照射装置と混床式イオン交換装置の組合わせを流路に沿って少くとも1組設けたことを特徴とする超純水製造装置。
IPC (9件):
C02F 1/32 ,  B01D 61/08 ,  B01D 61/18 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/44 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 504
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 超純水の製造法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-301993   出願人:日本錬水株式会社
  • 特開平4-108588

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