特許
J-GLOBAL ID:200903057475471498

ウエハのメッキ装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 熊谷 隆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-335103
公開番号(公開出願番号):特開平11-152600
出願日: 1997年11月19日
公開日(公表日): 1999年06月08日
要約:
【要約】【課題】 ウエハ上にメッキを行なう場合に印加する電場が細く調整できてウエハ表面に容易に均一な厚みのメッキを形成することができるウエハのメッキ装置を提供する。【解決手段】 電解メッキ液20中に、ウエハ100と、ウエハ100から所定距離離間してウエハ100表面に対向するように設置されるアノード30とを浸漬する。アノード30のウエハ100に対向する側の表面上に板状の誘電体40を設置する。誘電体40はウエハ100と同心円状にその中心部よりも外周部の方が遮蔽効果が大きくなるように、その厚みが中心部ほど薄く、外周部に向かうほど同心円状に厚くなるように構成した。
請求項(抜粋):
電解メッキ液中に、ウエハと、ウエハから所定距離離間してウエハ面に対向するように設置されるアノードとを浸漬し、ウエハとアノード間に通電することでウエハ表面にメッキを行なうウエハのメッキ装置において、前記アノードのウエハに対向する側の表面上又はアノードとウエハ間に誘電体を設置し、該誘電体は前記ウエハと同心円状にその中心部よりも外周部の方が遮蔽効果が大きくなるように部分によって遮蔽効果の異なる構造に形成されていることを特徴とするウエハのメッキ装置。
IPC (3件):
C25D 17/10 ,  C25D 7/12 ,  H01L 21/02
FI (3件):
C25D 17/10 A ,  C25D 7/12 ,  H01L 21/02 B
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • カップ式めっき装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-215027   出願人:日本エレクトロプレイテイング・エンジニヤース株式会社
  • 電気メッキ装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-199141   出願人:イビデン株式会社
審査官引用 (2件)
  • カップ式めっき装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-215027   出願人:日本エレクトロプレイテイング・エンジニヤース株式会社
  • 電気メッキ装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-199141   出願人:イビデン株式会社

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