特許

J-GLOBAL ID：200903057597811796

単一電子素子、および半導体記憶装置、ならびにその製造方法

発明者： 峰 利之 ,  矢野 和男 ,  石井 智之
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 中村 純之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-133089
公開番号（公開出願番号）：特開平8-330566
出願日： 1995年05月31日
公開日（公表日）： 1996年12月13日
要約：

【要約】【目的】100nm以下の幅の多結晶Si膜のチャネル層を容易に形成できる構造の単一電子素子、半導体記憶装置、ならびにその製造方法を提供する。【構成】単一電子素子は、ソースとドレインに接続された薄い多結晶シリコン膜のチャネル層を有する絶縁ゲート型電界効果トランジスタにおいて、ソースとドレインをまたぎ、かつチャネル層の幅に相当する厚さの絶縁膜を有して、その側壁にチャネル層を形成した構造を備え、また半導体記憶装置は、複数のデータ線と、これに交叉するワード線と、その交叉する位置に記憶素子を有するメモリアレー構成の半導体記憶装置において、記憶素子に上記単一電子素子の構成を備え、かつ該単一電子素子のソースとドレインをそれぞれ隣合うデータ線に接続し、ゲートをワード線に接続した構成を備えることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

ソースとドレインに接続された薄い多結晶シリコン膜のチャネル層を有する絶縁ゲート型電界効果トランジスタとしての単一電子素子において、上記ソースとドレインをまたぎ、かつチャネル層の幅に相当する厚さの絶縁膜を有し、その側壁に上記チャネル層を形成したことを特徴とする単一電子素子。

IPC (7件)：

H01L 29/06 ,  H01L 21/324 ,  H01L 27/10 451 ,  H01L 27/108 ,  H01L 21/8242 ,  H01L 29/66 ,  H01L 29/78

FI (7件)：

H01L 29/06 ,  H01L 21/324 Z ,  H01L 27/10 451 ,  H01L 29/66 ,  H01L 27/10 681 A ,  H01L 27/10 681 B ,  H01L 29/78 301 J

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 半導体素子およびこれを用いた半導体記憶装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-291638   出願人：株式会社日立製作所