特許

J-GLOBAL ID：200903057629875740

イオン注入装置

発明者： 河合 禎
出願人/特許権者： 日新電機株式会社
代理人 (1件)： 原 謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-171135
公開番号（公開出願番号）：特開平8-036988
出願日： 1994年07月22日
公開日（公表日）： 1996年02月06日
要約：

【要約】【構成】 イオン源5から減速電極7および接地電極8によりイオンビームIを引き出し、負電位管13によりさらに負電圧Vdtによるエネルギーを与える。これにより、イオンビームIの引出方向への速度が高くなり、イオンビームIの発散が抑えられる。また、外部の正電位側に引き寄せられようとする負電位管13内のエレクトロンを、サプレッサ電極15・16により負電位管13内に閉じ込めるので、イオンビームIの中和が保たれてイオンビームIの発散がより抑えられることになる。また、負電位管13を出たイオンビームIは、エネルギーが与えられなくなるので、低エネルギーのまま輸送される。【効果】 注入エネルギーが低い場合にはイオンビームは発散する傾向にあるが、その発散によるイオンビームの減少を回避してイオンビームを有効に注入に供することができる。

請求項（抜粋）：

イオン源より引き出したイオンビームから分析マグネットにて所要のイオン種を取り出してイオン注入対象物に注入するイオン注入装置において、上記イオン源と上記分析マグネットとの間に、上記イオン源から高いエネルギーでイオンビームを輸送し、上記分析マグネットの直前で減速して所定のエネルギーにするビーム輸送手段が設けられていることを特徴とするイオン注入装置。

IPC (4件)：

H01J 37/317 ,  C23C 14/48 ,  H01J 37/05 ,  H01L 21/265

引用特許：

審査官引用 (1件)

• イオン打込み装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-117909   出願人：株式会社日立製作所