ポジ型レジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-272097
公開番号（公開出願番号）：特開2002-169295
出願日： 2001年09月07日
公開日（公表日）： 2002年06月14日
要約：

【要約】【課題】特に半導体デバイス等の製造において、解像力に優れたレジスト組成物、更には高解像力に加えて孤立ラインの線幅再現性に優れたレジスト組成物及び高解像力に加えて高感度、プロファイル形状が良好な電子線又はX線用レジスト組成物を提供すること。【解決手段】テロメリゼーション法もしくはオリゴメリゼーション法により製造されたフルオロ脂肪族化合物から導かれたフルオロ脂肪族基を側鎖に有する高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、及び重量平均分子量が3,000を超え、300,000以下であり特定の構造を有するアルカリ可溶性樹脂または酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂を含有することを特徴とする電子線またはX線用化学増幅系ポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)?@酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、?Aアルカリ可溶性樹脂及び酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する低分子化合物、又は?B酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂及び酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する低分子化合物と、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(C)テロメリゼーション法もしくはオリゴメリゼーション法により製造されたフルオロ脂肪族化合物から導かれたフルオロ脂肪族基を側鎖に有する高分子化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/039 601 , C08F212/02 , G03F 7/004 501 , G03F 7/033 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/039 601 , C08F212/02 , G03F 7/004 501 , G03F 7/033 , H01L 21/30 502 R

Fターム (33件)：

2H025AA00 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BC23 , 2H025BC42 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB17 , 2H025CB41 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 4J100AB00P , 4J100AB07P , 4J100AB07Q , 4J100AE09P , 4J100AL08P , 4J100BA02P , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA05P , 4J100BC43P , 4J100BC48P , 4J100BC49P , 4J100CA04 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (1件)

ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-275334 出願人：富士写真フイルム株式会社

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