軟磁性層を形成した基板の製造方法、軟磁性層を形成した基板、磁気記録媒体及び磁気記録装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-341570
公開番号（公開出願番号）：特開2003-151128
出願日： 2001年11月07日
公開日（公表日）： 2003年05月23日
要約：

【要約】【課題】磁気記録媒体において、基板と磁気記録層の間に設けられた軟磁性層からのノイズを小さくし、低ノイズの磁気記録媒体、および該磁気記録媒体を用いた磁気記録装置を得る。【解決手段】基板上に軟磁性層を形成する方法において、該基板に直流バイアス電圧を加えながらスパッタリングを行う軟磁性層を形成した基板の作製方法、該作製方法により作製された軟磁性層を形成した基板、該軟磁性層の上にすくなくとも磁気記録層を設けた磁気記録媒体、および該磁気記録媒体を用いた磁気記録装置。

請求項（抜粋）：

基板上に軟磁性層を形成する方法において、該基板に直流バイアス電圧を加えながらスパッタリングを行うことを特徴とする軟磁性層を形成した基板の製造方法。

IPC (2件)：

G11B 5/851 , G11B 5/667

FI (2件)：

G11B 5/851 , G11B 5/667

Fターム (8件)：

5D006CA03 , 5D006CA05 , 5D006DA08 , 5D006EA03 , 5D112AA04 , 5D112BD03 , 5D112BD05 , 5D112FA04

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開昭62-121924
磁気記録媒体および磁気記録装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-272247 出願人：富士通株式会社
垂直磁気記録媒体及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-040162 出願人：日本ディジタルイクイップメント株式会社

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