特許
J-GLOBAL ID：200903057740572650
反射マスク
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-294331
公開番号（公開出願番号）：特開平5-134385
出願日： 1991年11月11日
公開日（公表日）： 1993年05月28日
要約：
【要約】【目的】 反射照明によって投影される反射マスクにおいて、従来と同一波長の光および同一の投影ミラーを用いたままでも、投影像の解像限界が高くなるようにする。【構成】 反射部1と非反射部2とで形成された所定のパターンを有し、反射照明によって投影される反射マスク9において、前記非反射部をはさむ両側の反射部から反射した反射光の間に位相差を生じさせる位相シフト手段1bを設けた。
請求項（抜粋）：
反射部と非反射部とで形成された所定のパターンを有し、反射照明によって投影される反射マスクにおいて、前記非反射部をはさむ両側の反射部から反射した反射光の間に位相差を生じさせる位相シフト手段を設けたことを特徴とする反射マスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
