特許

J-GLOBAL ID：200903057790190863

フィルタ装置及びレジスト処理システム

発明者： 北野 淳一 ,  嘉数 勇二 ,  斉藤 美佐子
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-098443
公開番号（公開出願番号）：特開平7-236814
出願日： 1994年05月12日
公開日（公表日）： 1995年09月12日
要約：

【要約】【目的】 半導体ウェハ等の基板をレジスト処理するためのシステムに用いられるフィルタ装置を提供する。【構成】 外気をレジスト処理システム内に取り入れるための開口部をもつ枠体と、開口部に外気を吸引するファン装置と、このファン装置の少なくとも一方面側に位置するように枠体によって支持されたフィルタエレメントと、を有し、フィルタエレメントは、アルカリ成分と反応吸着しうる酸成分を含む多孔質体を有する。

請求項（抜粋）：

外気をレジスト処理システム内に取り入れるための開口部をもつ枠体と、前記開口部に外気を吸引する吸引手段と、この吸引手段の少なくとも一方面側に位置するように前記枠体によって支持されたフィルタエレメントと、を有し、前記フィルタエレメントは、アルカリ成分と反応吸着しうる酸成分を含む多孔質体を有することを特徴とする請求項1記載のフィルタ装置。

IPC (5件)：

B01D 53/46 ,  B01D 53/34 ,  B01D 53/81 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

B01D 53/34 120 A ,  B01D 53/34 A ,  H01L 21/30 569 D

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 環境制御装置および環境制御方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-066512   出願人：松下電器産業株式会社
• 特開平2-040215
  
• 特開昭55-162340
  
• 特開平3-238011
  
• 特開昭62-144732
  
• レジスト処理方法及びレジスト処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-001872   出願人：株式会社東芝