特許
J-GLOBAL ID:200903057811284766

ガス体昇温装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 田中 浩 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-044365
公開番号(公開出願番号):特開平11-233245
出願日: 1998年02月10日
公開日(公表日): 1999年08月27日
要約:
【要約】【課題】 電磁誘導加熱により発熱体を800°C以上の高温域に昇温させてガス体と接触させる。【解決手段】 ガス体が通るように非磁性体で形成された通路2 中に電磁誘導により発熱する発熱体3 を設置し、電磁誘導加熱した発熱体に通路内を通るガス体を接触させるガス体昇温装置において、発熱体を、炭素・セラミックス複合材料で構成する。別の構成では、発熱体とそのコイルとで構成する加熱段を、ガス体の移動方向に複数段設け、最初の加熱段の発熱体を金属で構成し、次の加熱段以降の加熱段の発熱体を炭素・セラミックス複合材料で構成する。炭素・セラミックス複合材料が、カーボンを主体としこれに炭化硼素および炭化珪素を複合させたものである。炭素・セラミックス複合材料が、800〜3500μΩcmの電気比抵抗を有するものである。このガス体昇温装置を、ガス体の脱臭装置に適用したこと。
請求項(抜粋):
ガス体が通るように非磁性体で形成された通路中に電磁誘導により発熱する発熱体を設置し、電磁誘導加熱した前記発熱体に前記通路内を通るガス体を接触させるガス体昇温装置において、前記発熱体を、炭素・セラミックス複合材料で構成したことを特徴とするガス体昇温装置。
引用特許:
審査官引用 (11件)
  • 厨芥処理機
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-155252   出願人:三洋電機株式会社
  • 触媒反応装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-349381   出願人:株式会社瀬田技研, オムロン株式会社
  • 廃棄物処理システム及び廃棄物処理方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-349378   出願人:株式会社瀬田技研, オムロン株式会社
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