特許

J-GLOBAL ID：200903057843142378

大粒径のシリカ粒子を含有するシリカゾルの製造方法

発明者： 渡部 淑胤 ,  鹿島 吉恭 ,  高木 宏行 ,  横山 卓史
出願人/特許権者： 日産化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-223098
公開番号（公開出願番号）：特開平9-067114
出願日： 1995年08月31日
公開日（公表日）： 1997年03月11日
要約：

【要約】【課題】均一な粒子径を有し、且つ球状で大粒径のコロイダルシリカが液状媒体に分散しているシリカゾルを効率よく製造する方法を提供する。【解決手段】本願発明のシリカゾルの製造方法は、(a)工程:20nm以上の粒子径を有する水性シリカゾルと、ケイ酸アルカリ水溶液及び/又はアルカリ水溶液を混合して、当該混合液中の全SiO2/M2O(但し、Mはアルカリ金属を示す)のモル比を10〜100に調整してヒール液とする工程、(b)工程:6〜10nmの粒子径、8〜20重量%のSiO2濃度及び2〜5のpHを有する水性シリカゾルを調整してフィード液とする工程、及び(c)工程:容器内にヒール液を入れ、ヒール液を90°C以上に保持しながら、ヒール液にフィード液を添加してヒール液中のシリカ粒子の粒子径を成長させるビルドアップ工程、からなる。

請求項（抜粋）：

下記(a)工程、(b)工程及び(c)工程;(a):20nm以上の粒子径を有する水性シリカゾルと、ケイ酸アルカリ水溶液及び/又はアルカリ水溶液を混合して、当該混合液中の全SiO2/M2O(但し、Mはアルカリ金属を示す)のモル比を10〜100に調整してヒール液とする工程、(b):6〜10nmの粒子径、8〜20重量%のSiO2濃度及び2〜5のpHを有する水性シリカゾルを調整してフィード液とする工程、及び(c):容器内にヒール液を入れ、ヒール液を90°C以上に保持しながら、ヒール液にフィード液を添加してヒール液中のシリカ粒子の粒子径を成長させるビルドアップ工程、からなるシリカゾルの製造方法。

IPC (2件)：

C01B 33/14 ,  C01B 33/151

FI (2件)：

C01B 33/14 ,  C01B 33/151

引用特許：

審査官引用 (3件)

• シリカゾルの製造及び濃縮法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-132531   出願人：バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト
• 特公昭46-020137
  
• 特公昭30-002618