ウェハ処理チャンバ用ガス入口

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-172897
公開番号（公開出願番号）：特開平7-193015
出願日： 1994年07月25日
公開日（公表日）： 1995年07月28日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 1つの流体通路に沿って移動する流体が混合領域に到達するまで他の通路に沿って移動する流体と混合しないように防止する。【構成】基板処理チャンバ(18)に処理流体を供給する装置で、別個の処理流体を貯蔵する多数の流体ストレージ、処理流体が流体ストレージから処理装置に流れる少なくとも2つの流体管路、及び流体管路を処理チャンバに接続する流体入口から成る。入口は別個の流体通路を有し、それに沿って形成された流体管路の各々に対応する。各流体通路はチャンバ壁の内壁であるいはその付近で混合ゾーンの中に開いているので、1つの流体通路に沿って移動する流体は混合ゾーンに到達するまで別の通路に沿って移動する流体と混合しないように防止する。

請求項（抜粋）：

壁を有し、基板支持サセプタが配置されている処理チャンバを当該内壁が画成している基板処理装置に処理流体を供給する装置であって、(a)別個の処理流体を各々貯蔵する複数の流体ストレージ、(b)処理流体を流体ストレージから処理装置に輸送する少なくとも2つの流体管路、及び(c)流体管路と処理チャンバとの間に配置され、少なくとも2つの別個の流体通路を含み、1つが少なくとも2つの流体管路の各々に接続され、各々が壁の内壁であるいはその付近で開いて流体混合領域を形成し、もって、1つの流体通路に沿って移動する流体が混合領域に到達するまで他の通路に沿って移動する流体と混合しないように防止する流体入口、とを備えるシステム。

IPC (2件)：

H01L 21/205 , H01L 21/22 511

引用特許：

出願人引用 (4件)

特開平4-233723
真空蒸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-009077 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
特開平4-245420

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審査官引用 (1件)

特開平4-233723

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