特許
J-GLOBAL ID:200903057879338325

酸化物超電導バルク体及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 國分 孝悦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-144263
公開番号(公開出願番号):特開2006-321668
出願日: 2005年05月17日
公開日(公表日): 2006年11月30日
要約:
【課題】 極低温への繰り返し冷却の耐久性が高い保護膜を有する酸化物超電導バルク体及びその製造方法を提供する。【解決手段】 表面保護膜2を有する酸化物超電導バルク体1であって、前記表面保護膜2が、前記酸化物超電導バルク体1の上に形成される第1樹脂層3と、当該第1樹脂層3の上に形成される第2樹脂層4とからなる酸化物超電導バルク体を形成する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
表面保護膜を有する酸化物超電導バルク体であって、 前記表面保護膜が、前記酸化物超電導バルク体の上に形成される第1樹脂層と、当該第1樹脂層の上に形成される第2樹脂層とからなることを特徴とする酸化物超電導バルク体。
IPC (3件):
C04B 41/89 ,  H01B 12/00 ,  H01B 13/00
FI (3件):
C04B41/89 B ,  H01B12/00 ,  H01B13/00 565D
Fターム (4件):
5G321AA04 ,  5G321BA03 ,  5G321CA50 ,  5G321DB56
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 特開平3-69576号公報
審査官引用 (13件)
  • 特開平1-183484
  • 特開平3-069576
  • 特開昭64-007414
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