特許
J-GLOBAL ID:200903057885175241
変位測定装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
西村 教光 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-271711
公開番号(公開出願番号):特開2000-097631
出願日: 1998年09月25日
公開日(公表日): 2000年04月07日
要約:
【要約】【課題】 測定対象の形状等によって近隣で反射した光を除去することができ、特に、狭ピッチの測定対象を高精度に測定できること。【解決手段】 レーザ1から放射される光はλ/4波長板3で所定の回転方向を有する円偏光とされて測定対象11に照射される。測定対象11の反射光はλ/4波長板6により直線偏光に戻された後、偏光ビームスプリッタ7を透過して光位置検出手段8の受光面に入射される。光位置検出手段8は、受光面上での反射光の受光位置に応じて測定対象11の変位量に対応した変位信号を出力する。測定対象11の反射光が近隣の測定対象12で2次反射してλ/4波長板6方向に反射されても、この迷光成分33は逆の回転方向を有する円偏光状態であり、偏光ビームスプリッタ7を透過せず、屈曲され光位置検出手段8に入射されず、測定精度を悪化させない。
請求項(抜粋):
測定対象に光を照射させ反射光の位置を光位置検出手段で検出して該測定対象の変位量を非接触で検出する変位測定装置において、光源から放射される光を所定の回転方向に円偏光させ前記測定対象に照射させる円偏光手段(3)と、前記測定対象から反射された円偏光の光を直線偏光にする直線偏光手段(6)と、前記直線偏光手段で直線偏光に戻された光のうち所定方向に直線偏光されている反射光のみ前記光位置検出手段に透過させる透過偏光手段(7)と、を備えたことを特徴とする変位測定装置。
IPC (3件):
G01B 11/00
, G02B 5/00
, H05K 13/08
FI (3件):
G01B 11/00 B
, G02B 5/00 B
, H05K 13/08 A
Fターム (25件):
2F065AA09
, 2F065AA24
, 2F065AA46
, 2F065AA51
, 2F065CC25
, 2F065DD12
, 2F065DD15
, 2F065FF01
, 2F065FF44
, 2F065GG04
, 2F065HH04
, 2F065HH10
, 2F065JJ16
, 2F065KK01
, 2F065LL10
, 2F065LL13
, 2F065LL32
, 2F065LL36
, 2F065LL37
, 2F065LL62
, 2F065MM03
, 2F065MM16
, 2H042AA04
, 2H042AA09
, 2H042AA21
引用特許:
審査官引用 (1件)
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バンプ電極検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-238273
出願人:富士通株式会社
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