特許

J-GLOBAL ID：200903058007579520

露光方法及び露光装置

発明者： 久保 博義
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-182107
公開番号（公開出願番号）：特開2000-156344
出願日： 1999年06月28日
公開日（公表日）： 2000年06月06日
要約：

【要約】【課題】 ウエハの複数個のショット領域に対して短い時間で二重露光を行なうこと。【解決手段】 fine用レチクルを用いて干渉縞(像)によってウエハの複数のショット領域を露光した後で、前記ウエハを現像せずにrough用レチクルを用いて装置の分解能以下の線幅の部分がボケた回路パターン像で前記複数のショット領域を露光することにより複数のショット領域に対して短時間で二重露光を行なう。

請求項（抜粋）：

ウエハのショット領域に対して途中で現像を行なうことなく互いに強度分布が異なる複数の像で露光を行なう露光方法であって、該ウエハの位置合わせを行なった後にある強度分布を有する像によって複数のショット領域を露光し、次いで、他の強度分布を有する像によって前記複数のショット領域を露光するときにはウエハチャック上の位置合わせの情報を用いていることを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 514 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 C ,  H01L 21/30 515 B

引用特許：

審査官引用 (3件)

• フォトレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-016763   出願人：株式会社リコー
• 特開昭61-263123
  
• 露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-124190   出願人：キヤノン株式会社