特許

J-GLOBAL ID：200903058038320622

移相マスクの検査方法

発明者： バーン・ジェン・リン
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 合田 潔 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-246667
公開番号（公開出願番号）：特開平6-201602
出願日： 1993年10月01日
公開日（公表日）： 1994年07月22日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、移相マスクのエラー検出を容易にすることを目的とする。【構成】 本発明の第1の実施例では、厚さλθ/2πのひとみ板20中に四分の一波長板30を備えた、移相マスク10の検査用の位相差顕微鏡8が提供される。角θと波長λは位相検出感度が最適となるように調節可能である。同様のθとλの最適化方式が干渉顕微鏡アセンブリにも適用され、この場合は検査用ビームがビーム・スプリッタで2本のビームに分割され、それぞれ鏡で反射され、第2のビーム・スプリッタで再結合される。一方のビーム中の鏡を移動させて、所与のλでθをその最適値に変化させることができ、λは光源の選択またはフィルタの交換によって変えることができる。

請求項（抜粋）：

0次光または基準光をθだけ移相させることのできる調節可能な移相器を使用することからなる位相エラーの改善により、フォトリソグラフィ用移相マスクを検査する方法。

IPC (2件)：

G01N 21/88 ,  G03F 1/08

引用特許：

審査官引用 (4件)

• マスクの検査方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-017974   出願人：富士通株式会社
• 半導体装置のパツケージ基板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-172907   出願人：松下電工株式会社
• 特開平4-177111
  
• 特開平2-089015