特許
J-GLOBAL ID：200903058046405432

汚染水及び有機排ガスの処理方法とその処理システム

発明者：
門脇 秀行

門脇 秀行 について

, 
増本 輝男

増本 輝男 について

, 
武田 幸雄

武田 幸雄 について

, 
和久井 一郎

和久井 一郎 について


出願人/特許権者：
三菱マテリアル資源開発株式会社

三菱マテリアル資源開発株式会社 について

, 
株式会社ワイビーエム

株式会社ワイビーエム について

, 
岩崎環境施設株式会社

岩崎環境施設株式会社 について

, 
三菱商事株式会社

三菱商事株式会社 について


代理人 (3件)： 富崎 元成 ,  円城寺 貞夫 ,  山田 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-269414
公開番号（公開出願番号）：特開2004-105817
出願日： 2002年09月17日
公開日（公表日）： 2004年04月08日
要約：
【課題】汚染水と空気との接触確率を向上させて、汚染水から有機排ガスを効率的に、かつ省エネルギーで分離・除去し、無害化する。【解決手段】噴流式曝気装置1の噴流ボックス7に噴射ノズルから噴出された汚染水の主噴流は、鉛直方向で内部空間Vの概ねの中心線の方向で鉛直方向上向きに噴射される。主噴流が噴射されると噴流ボックス7の8隅にはコアンダ効果により低圧うずである付着うずが発生し、主噴流には付着噴流が発生する。この噴流を利用して気水分離し、分離された有機排ガスを紫外線照射源52とアルミ鏡面仕上げ光触媒体53とを有し反射板55を介し光照射を施す光触媒装置2に導き無害化する。無害化された有機排ガスは噴流ボックス7に還流させ再利用する。汚染水から有機排ガスを完全無害化するまでの一貫した浄化システムとした。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
汚染水から揮発性有機化合物を含む有機排ガスを分離して無害化処理するための処理方法において、 前記汚染水を加圧して実質的に鉛直方向上方にノズルで噴射する行程と、 前記噴射と共に空気を吸引、又は圧入して実質的に区画された空間内で前記汚染水と前記空気を攪拌・混合するための噴流を形成する行程と、 前記空間の鉛直方向の上方の吐出口から前記攪拌・混合された前記汚染水、及び前記汚染水から分離された前記揮発性有機化合物を含む有機排ガスとを前記空間から吐出させる行程と、 吐出された前記揮発性有機化合物を含む有機排ガスを光触媒に照射させる行程と、 からなり、前記汚染水から除去された前記揮発性有機化合物を含む有機排ガスを前記光触媒の照射により紫外線分解処理をして無害化する ことを特徴とする汚染水及び有機排ガスの処理方法。
IPC (9件)：
C02F1/20 ,  B01D19/00 ,  B01D53/86 ,  B01J35/02 ,  C07B37/06 ,  C07C21/073 ,  C07C21/08 ,  C07C21/10 ,  C07C21/12
FI (10件)：
C02F1/20 A ,  B01D19/00 F ,  B01J35/02 J ,  C07B37/06 ,  C07C21/073 ,  C07C21/08 ,  C07C21/10 ,  C07C21/12 ,  B01D53/36 G ,  B01D53/36 J
Fターム (29件)：
4D011AA15 ,  4D011AD01 ,  4D011AD03 ,  4D037AA01 ,  4D037AB14 ,  4D037AB16 ,  4D037BA23 ,  4D037BB05 ,  4D048AA17 ,  4D048AB03 ,  4D048BA03X ,  4D048BB02 ,  4D048EA01 ,  4G069AA03 ,  4G069BA17 ,  4G069BA48A ,  4G069CA05 ,  4G069CA10 ,  4G069CA11 ,  4G069EA08 ,  4G069EA19 ,  4H006AA05 ,  4H006AC26 ,  4H006BA10 ,  4H006BA30 ,  4H006BA95 ,  4H006BB31 ,  4H006BD81 ,  4H006BD84
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM