汚染水および汚染ガスの浄化方法および装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：池条重信 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-080027
公開番号（公開出願番号）：特開2001-259664
出願日： 2000年03月22日
公開日（公表日）： 2001年09月25日
要約：

【要約】【課題】汚染された土壌から発生する汚染水および汚染ガスを、効率よく、かつ安全に処理できる汚染水および汚染ガスの浄化方法および装置を提供すること。【解決手段】汚染水6aを一旦貯留する処理槽2と、処理槽2内の汚染水6aにオゾン含有気体を供給するオゾン発生器3およびオゾン発生器3と処理槽2をつなぐ気体供給管8と、気体供給管8を介して汚染水6a中に供給されたオゾン含有気体を微細気泡化する微細気泡発生器4と、汚染水6aに波長の少なくとも一部が240nm〜320nmの範囲の紫外線を照射する光源5と、汚染ガス6b中の汚染物質を気相で光触媒分解させる光触媒を励起させる光源ならびに光触媒担持体を内部に設けた光触媒処理器22を備え、汚染水6a中の有害物質をオゾン-光複合酸化分解すると共に、汚染ガス6b中の有害物質を気相で光触媒分解させ、汚染水6aと汚染ガス6bを同時に浄化できる。

請求項（抜粋）：

汚染水と汚染ガスからなる汚染媒体の処理方法であって、汚染水にオゾンを含有する気体を微細気泡として供給しながら紫外線を照射し、汚染水中の有害物質をオゾン-光複合酸化分解すると共に、汚染ガス中の有害物質を気相で光触媒分解させ、汚染水と汚染ガスを同時に浄化することを特徴とする汚染水および汚染ガスの浄化方法。

IPC (7件)：

C02F 1/72 101 , A62D 3/00 , B01D 53/86 , B01D 53/86 ZAB , B01J 35/02 , C02F 1/32 ZAB , C02F 1/78

FI (7件)：

C02F 1/72 101 , A62D 3/00 , B01J 35/02 J , C02F 1/32 ZAB , C02F 1/78 , B01D 53/36 G , B01D 53/36 ZAB J

Fターム (50件)：

2E191BA12 , 2E191BA15 , 2E191BB01 , 2E191BD11 , 2E191BD13 , 2E191BD17 , 4D037AA11 , 4D037AB14 , 4D037AB16 , 4D037BA18 , 4D037CA12 , 4D048AA11 , 4D048AA17 , 4D048AB03 , 4D048AC07 , 4D048BB05 , 4D048CA01 , 4D048CC38 , 4D048CC61 , 4D048CC63 , 4D048EA01 , 4D050AA12 , 4D050AB12 , 4D050AB19 , 4D050BB02 , 4D050BC04 , 4D050BC09 , 4D050BD03 , 4D050BD06 , 4G069AA03 , 4G069BA04A , 4G069BA04B , 4G069BA05A , 4G069BA14B , 4G069BA48A , 4G069BB04A , 4G069BC25A , 4G069BC35A , 4G069BC60A , 4G069BC66A , 4G069BE38A , 4G069BE38B , 4G069CA04 , 4G069CA05 , 4G069CA10 , 4G069CA19 , 4G069DA02 , 4G069EA06 , 4G069GA10 , 4G069GA13

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開平2-075391
揮発性土壌汚染物質の抽出方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-338720 出願人：住友金属鉱山株式会社
土壌汚染浄化方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-017546 出願人：日立プラント建設株式会社

全件表示

前のページに戻る