特許

J-GLOBAL ID：200903058062452408

導電性ポリマーの層のパターン化方法

発明者： トム・クルート ,  ロジェ・ヴァン・ダン・ボゲール ,  ジャン-ピエール・タオン ,  フラン・ルヴェ
出願人/特許権者： アグファ・ゲヴェルト・ナームロゼ・ベンノートチャップ
代理人 (1件)： 安達 光雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-144729
公開番号（公開出願番号）：特開2001-035276
出願日： 2000年05月17日
公開日（公表日）： 2001年02月09日
要約：

【要約】【課題】 好適な導電性ポリマーの層のパターン化方法を提供する。【解決手段】 下記工程を含む支持体上の導電性ポリマーにおいて電極パターンを製造するための方法:- 10〜5000mg/m2の導電性ポリマーを含有する層を支持体上に適用して導電性層を作る、及び- ClO-,BrO-,MnO4-,Cr2O7--,S2O8--及びH2O2からなる群から選択された酸化剤を含有する印刷溶液を使用して前記層上に電極パターンを印刷する。

請求項（抜粋）：

下記工程を含む支持体上の導電性ポリマーにおいて電極パターンを製造するための方法:- 10〜5000mg/m2の導電性ポリマーを含有する層を支持体上に適用して導電性層を作る、及び- ClO-,BrO-,MnO4-,Cr2O7--,S2O8--及びH2O2からなる群から選択された酸化剤を含有する印刷溶液を使用して前記層上に電極パターンを印刷する。

IPC (5件)：

H01B 13/00 503 ,  C08G 61/12 ,  C08J 5/18 CEZ ,  G06F 3/033 360 ,  C08L 65:00

FI (4件)：

H01B 13/00 503 D ,  C08G 61/12 ,  C08J 5/18 CEZ ,  G06F 3/033 360 H

引用特許：

審査官引用 (1件)

• E-ビームレジスト用の塩基現像可能な放電トップ層
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-259348   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション