特許
J-GLOBAL ID：200903058070982629
電子材料用洗浄液
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-002284
公開番号（公開出願番号）：特開平11-197678
出願日： 1998年01月08日
公開日（公表日）： 1999年07月27日
要約：
【要約】【課題】半導体用シリコン基板、液晶用ガラス基板、フォトマスク用石英基板などの電子材料のウェット洗浄に用いられる、気体を溶解し、溶存不純物量が極めて少なく、簡便かつ経済的に製造することができる電子材料用洗浄液を提供する。【解決手段】あらかじめ純水と接触させて清浄化した気体を、洗浄用液体に溶解してなることを特徴とする電子材料用洗浄液。
請求項（抜粋）：
あらかじめ純水と接触させて清浄化した気体を、洗浄用液体に溶解してなることを特徴とする電子材料用洗浄液。
IPC (4件)：
C02F 1/78
, B08B 3/08
, C02F 1/74
, H01L 21/304 647
C02F 1/78
, B08B 3/08 A
, C02F 1/74 Z
, H01L 21/304 647 Z
