特許
J-GLOBAL ID：200903058127427333
光を使用した欠陥検査方法、およびその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-126613
公開番号（公開出願番号）：特開平9-311109
出願日： 1996年05月22日
公開日（公表日）： 1997年12月02日
要約：
【要約】【課題】 セラミック基板や燒結金属体などの被検査物のクラック欠陥などを、光学的不均一性、または熱伝導的不均一性を検出することにより検査する欠陥検査方法、およびその装置を提供する。【解決手段】 半導体レーザー光源を一次元に配置したアレイ状光源1と投影レンズ2により、被検査物6上に点線状に強度を変化させた照明を行う。そしてこの照明領域12とは離れた撮像領域11から放射される光を、対物レンズ3を介してラインセンサ4で撮像する。次に試料移動系5で被検査物6を順次移動させながら、ラインセンサ4の信号と試料移動系5の信号から画像を形成する前処理部7を介して画像処理部8に入力された画像信号を画像処理することにより、被検査物6の光学的不均一性を検出してクラック欠陥9,10を検査する。
請求項（抜粋）：
被検査物の表面に、表面位置で強度が異なる光を照射し、この照射光が前記被検査物の表面から内部に浸透した後に前記被検査物の表面から放射される光を検出し、前記検出された光の強度の変化を検出することにより被検査物の光学的不均一を検出することを特徴とする光を使用した欠陥検査方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G01N 21/88 F
, G01B 11/30 C
, G01B 11/30 H
