特許

J-GLOBAL ID：200903058189562288

光コヒーレンストモグラフィ装置

発明者： 衣笠 静一郎
出願人/特許権者： 株式会社山武
代理人 (7件)： 三好 秀和 ,  岩▲崎▼ 幸邦 ,  川又 澄雄 ,  伊藤 正和 ,  高橋 俊一 ,  高松 俊雄 ,  伊東 有道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-151644
公開番号（公開出願番号）：特開2008-304314
出願日： 2007年06月07日
公開日（公表日）： 2008年12月18日
要約：

【課題】深さ方向の測定分解能の高い光コヒーレンストモグラフィ装置を提供する。【解決手段】照射光を発する光源114、照射光を第1参照光と検査光に分割し、試料190の断層面195に向けて検査光を透過させる第1半透鏡41、照射光を第2参照光と基準光に分割する第2半透鏡42、第2半透鏡42に対向して配置された、基準光を反射する基準用反射鏡43、第1参照光と試料190の断層面195に照射されて測定光路長を進んだ検査光との第1干渉縞と、第2参照光と基準用反射鏡43で反射され基準光路長を進んだ基準光との第2干渉縞との合成干渉縞を検出する干渉縞検出素子153、合成干渉縞から、測定光路長と基準光路長との光路差に応じて変動する干渉縞成分を抽出する抽出モジュール310、及び干渉縞成分及び基準光路長の値に基づいて測定光路長の値を算出し、第1半透鏡41に対する試料190の断層面195の位置を算出する算出モジュール330を備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

照射光を発する光源と、 前記照射光を第1参照光と検査光に分割し、試料の断層面に向けて前記検査光を透過させる第1半透鏡と、 前記照射光を第2参照光と基準光に分割する第2半透鏡と、 前記第2半透鏡に対向して配置された、前記基準光を反射する基準用反射鏡と、 前記第1参照光と前記試料の断層面に照射されて測定光路長を進んだ前記検査光との第1干渉縞と、前記第2参照光と前記基準用反射鏡で反射され基準光路長を進んだ前記基準光との第2干渉縞との合成干渉縞を検出する干渉縞検出素子と、 前記合成干渉縞から、前記測定光路長と前記基準光路長との光路差に応じて変動する干渉縞成分を抽出する抽出モジュールと、 前記干渉縞成分及び前記基準光路長の値に基づいて前記測定光路長の値を算出し、前記第1半透鏡に対する前記試料の断層面の位置を算出する算出モジュール とを備えることを特徴とする光コヒーレンストモグラフィ装置。

IPC (3件)：

G01B 11/00 ,  G01N 21/17 ,  G01N 21/45

FI (3件)：

G01B11/00 G ,  G01N21/17 620 ,  G01N21/45 A

Fターム (46件)：

2F065AA01 ,  2F065AA52 ,  2F065BB05 ,  2F065CC16 ,  2F065EE00 ,  2F065FF52 ,  2F065GG03 ,  2F065GG06 ,  2F065GG07 ,  2F065GG23 ,  2F065GG24 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL00 ,  2F065LL04 ,  2F065LL12 ,  2F065LL23 ,  2F065LL46 ,  2F065LL67 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ15 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ26 ,  2F065QQ42 ,  2G059AA05 ,  2G059BB12 ,  2G059DD13 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059FF02 ,  2G059GG01 ,  2G059GG02 ,  2G059GG10 ,  2G059HH01 ,  2G059HH02 ,  2G059HH03 ,  2G059JJ03 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK01 ,  2G059KK03 ,  2G059MM01 ,  2G059MM10

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 時間シアリング光コヒーレンストモグラフィー装置及び方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-134034   出願人：株式会社筑波リエゾン研究所