ポリアゾールポリマー系組成物及びそれを主成分とする膜、並びにポリアゾール系ポリマー組成物の成形方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-350047
公開番号（公開出願番号）：特開2002-146186
出願日： 2000年11月16日
公開日（公表日）： 2002年05月22日
要約：

【要約】【課題】耐熱性、機械特性に優れた膜の主成分として用いることのできるイオン性基含有ポリアゾール系ポリマー組成物及び該ポリマー組成物より得られる膜、並びに該ポリマー組成物の成形方法の提供。【解決手段】イオン性基含有ポリアゾール系ポリマーとイオン性基を含有しないポリアゾール系ポリマーを混合してポリアゾール系ポリマー組成物とする。

請求項（抜粋）：

(A)イオン性基を含まないポリアゾール系ポリマーと、(B)イオン性基を有するポリアゾール系ポリマーとからなることを特徴とするポリマー組成物。

IPC (9件)：

C08L 79/04 , B29C 41/26 , B29C 41/28 , C08G 73/06 , C08J 5/18 CFG , C08J 5/22 101 , B29K 81:00 , B29L 7:00 , C08L 79:04

FI (9件)：

C08L 79/04 Z , B29C 41/26 , B29C 41/28 , C08G 73/06 , C08J 5/18 CFG , C08J 5/22 101 , B29K 81:00 , B29L 7:00 , C08L 79:04

Fターム (49件)：

4F071AA58 , 4F071AA75 , 4F071AA76 , 4F071AA81 , 4F071AA88 , 4F071AF37 , 4F071AH15 , 4F071BB02 , 4F071BC01 , 4F205AA34A , 4F205AC05 , 4F205AG01 , 4F205GA07 , 4F205GB02 , 4F205GC02 , 4F205GC07 , 4F205GE21 , 4F205GF24 , 4J002CM04W , 4J002CM04X , 4J002GD00 , 4J002GQ00 , 4J002GT00 , 4J043PA04 , 4J043PA08 , 4J043PA10 , 4J043PC186 , 4J043PC206 , 4J043QB64 , 4J043RA42 , 4J043RA52 , 4J043RA57 , 4J043SA06 , 4J043SA71 , 4J043TA12 , 4J043TA71 , 4J043TA75 , 4J043TA79 , 4J043UA121 , 4J043UA122 , 4J043UB011 , 4J043UB021 , 4J043UB051 , 4J043UB121 , 4J043UB151 , 4J043UB281 , 4J043UB301 , 4J043ZB11 , 4J043ZB14

引用特許：

審査官引用 (4件)

高分子組成物
公報種別：公表公報出願番号：特願2002-501997 出願人：エスアールアイインターナショナル, ポリフューエル・インコーポレイテッド
スルホン酸含有ポリイミダゾール化合物およびその成型物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-101022 出願人：東洋紡績株式会社
リン酸基含有重合体
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-293800 出願人：日本合成ゴム株式会社

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