水素ガス生成装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：中島淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-056683
公開番号（公開出願番号）：特開2002-255503
出願日： 2001年03月01日
公開日（公表日）： 2002年09月11日
要約：

【要約】【課題】デカリン/ナフタレン反応を利用して水素使用装置に高純度の水素ガスを供給し、水素使用装置の効率を向上する。【解決手段】原燃料であるデカリンを貯留する貯留タンク10、触媒及び触媒を加熱するヒータを備え、貯留タンク10から供給されたデカリンを加熱された触媒上で脱水素反応させてナフタレンと水素ガスとを生成する反応タンク20、及び反応タンク20から供給されたナフタレン及び水素リッチガスから水素分離膜40を用いて水素ガスを分離して排出する分離タンク30を備えている。

請求項（抜粋）：

デカリンからなる燃料またはデカリンを主成分とする燃料を貯留する貯留タンクと、触媒及び触媒を加熱する加熱器を備え、供給された燃料を加熱された触媒上で脱水素反応させる反応タンクと、前記貯留タンク内の燃料を前記触媒上で液膜状態となるように前記反応タンクに供給する供給装置と、水素ガス分離手段を備えると共にデカリンの脱水素反応によって生じたナフタレン及び水素ガスが供給され、前記水素ガス分離手段によって水素ガスを分離して排出する分離タンクと、を含む水素ガス生成装置。

IPC (4件)：

C01B 3/26 , C01B 3/56 , H01M 8/06 , C10L 1/04

FI (4件)：

C01B 3/26 , C01B 3/56 Z , H01M 8/06 R , C10L 1/04

Fターム (16件)：

4G040DA03 , 4G040DA04 , 4G040DC03 , 4G040FA02 , 4G040FC01 , 4G040FE01 , 4G140DA03 , 4G140DA04 , 4G140DC03 , 4G140FA02 , 4G140FC01 , 4G140FE01 , 5H027BA13 , 5H027BA16 , 5H027KK00 , 5H027MM01

引用特許：

審査官引用 (6件)

燃料電池用水素燃料供給システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-290244 出願人：株式会社関西新技術研究所, 市川勝
有機ハイドライド/金属ハイドライドヒートポンプ
公報種別：公表公報出願番号：特願平6-514576 出願人：ユナイテッドテクノロジーズコーポレイション
ダイヤモンド膜の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-078094 出願人：グンゼ株式会社, 平木昭夫, 八田章光

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引用文献：

審査官引用 (2件)

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